鈦是當今使用的金屬之一。它形成堅韌的合金，在其應用中非常通用。它是’太空時(shí)代’的金屬。在本文中，我提供了鈦元素的完整物理和化學(xué)特征，以及有關(guān)其提取過(guò)程和應用的信息。從整植入物，航空工藝品和航天器的建造到設計師珠寶，鈦具有多種用途，使其成為人類(lèi)使用多功能的金屬之一。物理和化學(xué)特性鈦（Ti）是一種基本化學(xué)元素，原子序數為22，平均原子量為47.9gm。它的電子配置中有2個(gè)不成對電子。鈦是純銀，是一種銀色的過(guò)渡金屬。該金屬的熔點(diǎn)和沸點(diǎn)分別為1668℃和3287℃。與其他金屬相比，純鈦具有非常低的密度（室溫下為4.506gm/cm，并且具有超過(guò)平均強度。它重要的特性是與其他金屬相比，它具有很強的抗腐蝕性。它可以承受稀硫酸和鹽酸，海水，氯化合物以及氣態(tài)氯和有機酸而不會(huì )腐蝕。鈦與鋁，鐵，釩和鉬形成堅固的輕合金。與鋼相比，鈦的強度相當，但輕45％！

電弧增強輝光放電刻蝕這個(gè)模塊的設計原理和濺射刻蝕模塊的設計原理相似(圖8。取代在基底背面的磁控系統的是與空心陽(yáng)極底部結合的電弧蒸發(fā)器，電板蒸發(fā)器利用擋板與基底隔開(kāi)。在基底附近的附加電極收集來(lái)自擋板后面的電弧等離子體的電子。這些電子在基底附近產(chǎn)生一個(gè)強且寬的等離子體。等離子體的密度可以輕易地利用蒸發(fā)器的電流和附加電極來(lái)控制。在操作中，與在反轉磁控濺射情況下相同的直流或中頻電源可以用于提供空心陽(yáng)極的偏壓。在初步的試驗中，已經(jīng)發(fā)現對于鋼帶的刻蝕率在12nm/s的級別內，并且僅使用了濺射刻蝕模塊所需偏壓電源的一半。

鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量，在現代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進(jìn)行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據光學(xué)的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長(cháng)的物質(zhì)(通常為氟化物)，使鏡頭對這一波長(cháng)的色光的反射降至低。顯然，一層膜只對一種色光起作用，而多層鍍膜則可對多種色光起作用。多層鍍膜通常采用不同的材料重復地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率，例如，未經(jīng)鍍膜的透鏡每個(gè)表面的反射率為5%，單層鍍膜后降至2%，而多層鍍膜可降至0．2%，這樣，可大大減少鏡頭各透鏡間的漫反射，從而提高影像的反差和明銳度。